在高度成熟的半導體製造領域，您正面臨關鍵挑戰：如何在控制成本的同時提升產能並保持卓越品質。ULTRA半導體光罩直寫系統正是為解決這一核心難題而研發，像是微控制器(MCU)、電源管理IC、LED、物聯網設備、光子器件及MEMS各類晶片提供高性價比的光罩製造解決方案，以卓越的速度、精度和可靠性，助力您實現良率與盈利能力的最大化。

為什麼選擇 ULTRA？

ULTRA 結合最先進的技術，可解決現代光罩車間的主要問題：速度、精度和投資回報。

利用高輸送量加快產能

ULTRA系統以超越傳統設備的卓越生產力，顯著減少設備停機時間，助您輕鬆應對緊迫的生產計畫。其先進的曝光引擎和優化的寫入模式，可將標準6英寸光罩的製造時間縮短至45分鐘以內。

• 基於 SLM 的快速曝光引擎：
  寫入速度高達 580 mm²/分鐘，同時不影響品質。

• 全自動光罩傳輸系統：
  簡化操作介面，顯著降低人工干預，確保穩定可靠的光罩裝卸，實現連續生產。

• 優化的寫入模式：
  靈活選擇速度優先或精度優先模式，精准匹配您的不同工藝需求。

以極致的精度實現最高產量

分毫必較，精益求精。ULTRA系統搭載高精度核心元件，確保卓越的對準精度、套刻精度和關鍵尺寸(CD)均勻性，持續穩定輸出高品質光罩。

• 高精度平臺系統：
  全氣浮平臺搭配零熱膨脹ZERODUR^®載台，提供極致穩定性，徹底消除熱漂移。

• 先進的位置控制：
  高解析度差分干涉儀系統，實現特徵圖形的超精准定位與高重複性。

• 工具匹配功能：
  板載校正功能可支援您多台機器精確匹配，確保整套光罩的一致性。

卓越成像品質和無縫集成

ULTRA系統可製備完美符合嚴苛標準的無缺陷光罩，實現500奈米以下特徵尺寸的銳利清晰成像。其精心設計確保與現有產線無縫銜接。

• 定制的微納光學器件：
  專為光罩寫入優化的定制鏡頭和低畸變紫外光學設計，確保卓越成像均勻性。

• 占地面積小：
  該系統只需佔用最小化的無塵室空間，無需昂貴改造即可快速集成至現有產線。

• 久經考驗的可靠性：
  ULTRA 是一個全球頂尖光罩廠共同認證的成熟工具，深受全球行業產能穩定性的信賴。

提升您的光罩生產

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