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| 適用範圍 Applications : |
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適用於各種類型的雷射光罩繪圖產品，例如： YAG, Ar。 |
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也適用於接觸式負片玻璃光罩製程。 |
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光譜感度 Spectra sensitivity : |
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| 特色 Features : |
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使用快速爆發顯影藥水，更容易控制顯影製程。 |
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搭配優秀的顯影藥水，可以持續使用在自動設備或手動槽製程槽中。 |
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高黑化度可以達到5.5 以上。 |
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也適用E系列產品的顯影液(DE-200)。 |
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製程條件 Processing conditions: |
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Processing |
Chemical used |
Temp. |
Time |
Development |
Developer............ CDM-721
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20℃ |
2 minutes with continuous
agitation |
Stop bath |
Acetic acid (3%) |
18~21℃ |
10 to 30 seconds |
Fix |
Fixer...................... CFL-881
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18~21℃ |
2 minutes
with continuous agitation |
Wash |
Flowing water |
18~21℃ |
10 minutes
or more |
Drying |
Clean air 20 to 50℃ |
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Some processing conditions with HE1 & CE1 applied when
processed with E-Series developer (DE-200) |
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Designated safe light : Please ask for details |
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業務聯絡人 請洽詢：(03)550-0499 江先生(Wesley) 
E-mail |
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