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| 適用範圍 Applications : |
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適用於各種類型的雷射光罩繪圖產品，例如： YAG, Ar, He-Cd。 |
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也適用於接觸式負片玻璃光罩製造。 |
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| 特色 Features : |
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忠實呈現各種線條，不論是細的線條或是粗的線條，都有最佳的呈現。 |
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改良顯影製程的穩定性同時增加藥水抗氧化性。 |
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減少在顯影製程階段所產生的缺點。 |
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降低顯影藥水的消耗，提高環境保護要求。 |
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光譜感度 Spectra sensitivity : |
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線條寬度比較 Line width balance : 線條尺寸完美地被複製 |
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時間變化反應顯影藥水的穩定性與消耗 Developer stability
over time : |
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製程條件 Processing conditions: |
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Processing |
Chemical used |
Temp. |
Time |
Development |
Developer............ DE-200
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20℃ |
3 minutes with continuous agitation |
Stop bath |
Acetic acid (3%) |
18~21℃ |
10 to 30 seconds |
Fix |
Fixer...................... CFL-881
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18~21℃ |
3 minutes with continuous agitation |
Wash |
Flowing water |
18~21℃ |
10 minutes
or more |
Drying |
Clean air 20 to 50℃ |
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Designated safe light : Please ask for details |
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業務聯絡人 請洽詢：(03)550-0499 江先生(Wesley) 
E-mail |
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