StellaLogo
玻璃光罩底片光罩製成機Stella Fine VisionIntercept
德國海德堡光罩繪圖機RaithTOARainbow
logo
DWL66+DWL 2000DWL 4000DWL 8000VPG 1600
MLA100mla150
    DWL 8000
     
DWL 8000
Download :DWL 8000 PDF
[pdf / 530 KB]

 

大面積描寫系統 : DWL 8000
在大面積範圍中,也可以瞄寫2D和3D圖形

新的 DWL 8000 系列是針對微光學領域的 2D 和 3D 的微構造形式所製作。
對於雷射圖形生成器、MEMS、displays 和 sensors 都有加寬、加高的設計。 DWL 8000 精確的溫度控制、動態的焦點追蹤、closed loop 位置決定,確保完美佈置和完全覆蓋性的直寫範圍。

The new DWL 8000 series is a line of advanced large area laser pattern generators ideal for patterning demanding 2D and 3D micro structures in the fields of micro optics, MEMS, displays and sensors. The DWL 8000's rigid temperature control, dynamic focus tracking and closed loop positioning ensures excellent placement and overlay performance spanning the entire write area.

DWL8000 多年的經驗累積,使 Gray Scale 曝光技術可以更有效率於更小的系統上直寫更大的區域範圍。在使用高精密度技術於光罩上;使用經由曝光強度經過調整的雷射,可在連續表面上形成ㄧ個 3D 樣式。

Years of experience in Gray Scale exposure technology on our smaller systems has enabled us to effectively incorporate this method into the large area DWL 8000 systems. With this high precision fabrication technique a photoresist-coated substrate is raster scanned and exposed using an intensity-modulated laser in order to generate continuous surface-relief profiles in a single exposure step allowing formation of 3D patterns.

 
主要功能:
最小描繪尺寸 :0.7 μm
最小直寫範圍 : 20 nm
5 種描繪模式
可轉換成自動描繪模式
進階 3D 繪畫方式
測量 / 校直用照相機系統
選擇可能的雷射源
在線繪畫數據傳送
自動基板加載系統
多種多樣的繪畫數據輸入格式 (DXF,CIF,GDSII,Gerber,STL)
Stage.Map 補正
Edge detector unit
 
應用範圍:
Micro-optics
MEMS
Display
Micro sensor