微奈 3D 列印系統

nanoArch® 是採用 PμLSE(面投影微立體微影)技術,用於實現高精度多材料微奈尺度 3D 列印的設備。通過將紫外光投影到液態樹脂表面使其固化,逐層累加從而完成產品的製作。通過一次曝光可以完成一層的製作。

BMF 產品

EVENT

2018 第四屆「軟體機器人理論與技術」國際研討會暨「軟體機器人創新設計」競賽

日 期:Nov. 16-18, 2018  
地 點:北京航空航天大學 - 新主樓第一、二號報告廳02號
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EVENT

Semicon Taiwan 2018

日 期:Sep 5-7, 2018  
地 點:臺北南港展覽館一館1、4樓
展位號:N488 - 4th Floor
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BFM 產品

微奈 3D 列印:

採用面投影微立體微影(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技術,實現高精度 3D 列印。

該技術使用高精密紫外光刻投影系統,將列印圖案投影至樹脂槽液面,於液面固化樹脂,並快速成型微立體,從數位模型直接加工三維複雜的模型和樣件,完成樣品的製作。具備成型效率高、列印精度高等突出優勢,被認為是目前最有前景的微奈加工技術之一。

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產品特性

可定製高定位精度的光學系統和運動平臺,兩者最高解析度皆可達到 20μm。

採用圖像拼接成型方式,解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾。

通過製程技術控制,實現 3D 列印成品的表面光滑。

光學即時監控,實現自動對焦及曝光補償。

nanoArch 圖形介面控制系統,參數開放。

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應用案例

三維點陣模型

超高 XY 列印精度

微型彈簧

微圓柱陣列

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